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研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。